Ni)과 유전체(SiO2)의 박 막을 기판 위에 증착할 수 있는 장비이다. 진공도는 Torr까지 얻을 수 있다. 박막 증착시에는 박막 두께 측정 센서를 통해 박막의 두께를 확인하며 공정을 진행할 수 있다. 박막은 보통 0.5 Aring/sec ~ 1.0 Aring/sec의 증착 속도로 증착을 하며 3, 4 인치 웨이퍼를 비롯하여 여러 가지 시편
③ PVD(Physical Vapor Deposition)
PVD는 증착시키려는 물질이 기판에 증착될 때 기체 상태가 고체 상태로 바뀌는 물리적인 변화를 이용한 방법을 말한다. 다른 증착법과는 다르게 저온에서 간단히 박막을 증착할 수 있는데, 다음과 같이 여러 증착법이 있다.
스퍼터링(Sputtering), 전자빔 증착법 (E-beam evapora
particle, 유기 오염물, 금속 오염물 그리고 자연 산화막으로 나눌 수 있다. 이런 다양한 오염물들을 제거하기 위해서 웨이퍼는 각각의 오염물들을 효과적으로 제거하기 위한 여러 가지 세정 용액을 혼합하여 일괄 처리 공정으로 세정된다.
현재 반도체 공정에서 사용하는 습식 세정 공정은 1970년대 개
1. 고대영어 이전
가. 영어의 뿌리 : 인도-유럽어족
1. 언어의 기원설
언어에 대해서 인류가 가지고 있는 가장 오래된 기록은 유태인들이 기록해 놓은 창조설화 속에서 찾아 볼 수 있다. 창세기 제 11장 제 1절부터 제 9절에 서술된 내용을 보면, Babylon에 사는 사람들이 탑을 세워 하늘에 미치게 하려고
-英語發達史-
1. 古代英語 以前
가. 英語의 뿌리 : 印度-유럽語族
1. 言語의 起源說
언어에 대해서 인류가 가지고 있는 가장 오래된 기록은 유태인들이 기록해 놓은 창조설화 속에서 찾아 볼 수 있다. 창세기 제 11장 제 1절부터 제 9절에 서술된 내용을 보면, Babylon에 사는 사람들이 탑을 세워 하늘에
지정사(-이다)의 문제
조사를 품사로 인정하느냐의 여부로서 그에 따라 품사를 몇 개로 인정 하느냐도 각각 9품사 체계와 8품사 체계로 달라진다. 실제로 일찍이 조사에 대해 붙여졌던 다른 이름들인 ‘후치사(後置詞, postposition)’나 ‘첨사(添辭, particle)’라는 용어도 자립성 없이 다른 단어에
Ni peak originated from the sample grid and the extraction replica was mainly responsible for the C peak. (Note: N was not observed in these particles, possibly due to strong absorption by carbon.). For example, a 10nm size particle was selected Fig.3a and a spot analysis was conducted. From the acquired spectrum Fig.3b, the particle was identified as another Nb precipitate. Prior to this study,
Anode :
state-of-art anodes are made of a Ni-Cr/Ni-Al alloy.
The Cr was added to eliminate the problem of anode sintering.
Sintering :
The particles grow faster at higher temperatures in low CO2 gas atmospheres, and in strongly basic melts
Cathode :
An acceptable material for cathode must have adequate electrical conductivity, structural strength, and low disso